| 竞价编号：JJ******094553 | |
| 项目名称：多功能磁控溅射镀膜系统 | |
| 项目预算(元)：568,000.00 | 报价方式： 总价报价 |
| ******学院 | 联系人：****** |
| 最少报价家数：3 | 联系电话：****** |
| 联系手机：****** | 电子邮箱：****** |
| 异议反馈：****** | |
| 开始时间：2025-01-03 16:03:54 | 截止时间：2025-01-06 16:03:54 |
| 报价文件要求：本项目要求报价时上传相关文件 | |
| 资格条件：无 |
| 付款方式：合同签订后7个工作日内，乙方向甲方提交合同总金额的（不超过10%，据实确定）的履约保证金，乙方开具合同金额30%的增值税专用发票，甲方在收到履约保证金后，向乙方支付合同总金额的30%的预付款；设备具备交付条件完成工厂验收或货到项目现场并组装完毕，乙方开具合同金额30%的增值税专用发票，甲方向乙方支付合同总金额的30%货款；双方组织验收后15个工作日内，乙方开具合同金额40%的增值税专用发票，甲方向乙方支付合同总金额40%的货款；履约保证金在验收合格后返还乙方。 | |
| 交付时间： 签订合同后120天送货。 | |
| ******学院（湖光校区）内采购人指定地点。 | |
| 质保期及售后要求：1、质保期：提供至少一年的仪器设备的免费保修期（保修期内免费维修并更换除消耗品以外的零部件，维修人员的路费、食宿等自理）。 2、售后服务要求： 1）免费送货到指定地点，免费安调试。 2）为本项目配备足够的售后服务力量，技术支持网点为本公司整个技术团队所在地，有专业技术服务资质，技术支持人员数量不低于2人，综合素质及专业水平优良； 3）售后服务电话响应时间不超过4小时，到场响应时间在两个工作日内； 4）免费提供技术支持热线电话； 5）免费提供email技术支持，并且在24小时内回复； 6）提供该设备的技术使用说明书及外购配件仪器说明书，并指导在使用该设备时的操作注意事项等； 7）提供至少一年的配套软件免费升级服务。 | |
| 其他要求：1、验收标准： 供应商应保证在要求时间内完成全部货物的供货、安装、调试和培训工作,符合国家标准、行业规范和合******学校验收的权限，相关部门及人员形成验收小组，验收小组根据采购文件、投标文件、合同等项目文件约定内容对项目进行综合运行验收。如验收达不到要求，采购人有权要求更换货物或拒绝付款，成交供应商若违约，采购人将依法追究相应法律责任。 2、节能、环保要求： 符合国家和地方标准。 |
| 序号 | 标的名称 | 数量 | 计量单位 | 生产厂商/品牌 | 型号规格 | 是否限定品牌 | 技术要求 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 磁控溅射镀膜仪设备 | 1.00 | 套 | 速普仪器 | DSC2000 | 是 | 1. 真空腔体 1.1 模块化设计的圆柱腔室铝合金腔体，内腔尺寸不小于300mm直径×170mm高。 1.2 可以互换安装多种尺寸类型的磁控阴极等沉积源以及电子源或等离子体清洗源。 1.3 1个不小于70mm石英玻璃观察窗和舱门。观察窗带有手动耦合开启的观察窗挡板。 1.4 用于安装真空泵、真空计、进样室以及其他仪器的接口，并尽可能配有空余的备用法兰口。 2. 真空泵组系统 2.1 前级泵采用抽速不低于8 m3/h的一线品牌旋片泵 2.2 主泵采用抽速不低于240L/S的一线进口品牌分子泵，分子泵转速可调。 2.3 洁净腔体经过烘烤，系统的极限压强可达≤3×10-4Pa； 2.4 真空抽速：洁净腔体，从大气抽到3*10-3 Pa的时间≤20分钟。 3. 真空测量系统 3.1 工艺腔体配有进口品牌全量程真空计，测量范围为大气至10-8 Torr，自动量程切换。 3.2 主泵和前级泵之间配有皮拉尼真空计进行分子泵前级压力监控互锁。 3.3 以上真空度读数可在工控系统上显示。 4. 靶源系统 4.1 配备1组3英寸靶枪模块（含2只溅射阴极）。同时带自动挡板设置，可以有效防止靶材交叉污染，以及根据工艺需求独立控制开启。 4.2 不同靶枪模组之间可以根据不同工艺需求进行更换。 4.3 靶枪采用水冷，冷却水和磁钢不直接接触，磁路模块采用模块化设计，方便更换不同磁场设计类型的磁路。 4.4 靶枪工作压强典型值～0.2-1Pa 4.5 配备1台功率不小于300W的高性能DC磁控电源，可恒功率、恒电流和恒电压模式。 4.6 配备1台功率不小于300W的高性能RF磁控电源，可恒功率压模式，自动匹配。 5. 气体控制系统 5.1至少支持2路工作气体（氩气、氮气、氧气、氢气等气体）。使用50或200Sccm量程数字式气体流量计（MFC）控制工作气体，气体质量流量计控制精度优于±1%； 5.2 采用洁净不锈钢管道和配备相应电磁截止阀。 6. 样品台 6.1 样品尺寸：适合基片尺寸不小于6英寸直径。 6.2 样平台可以加装偏压设计 6.3 样品台系统采用多轴伺服电机控制系统+磁流体密封+波纹管模组，可以实现样品台自动上下升降（可调范围不低于40mm），以及样品台的旋转（速度 0-60 RPM可调） 7. 工控系统 7.1 采用先进的嵌入式软PLC工控系统方案，采用电容式触摸屏电脑人机界面交互。 7.2 工控软件具有手动模式和自动执行模式可选。能够通过显示屏实时显示系统真空，工艺气体流量、溅射功率、 溅射时间等工艺参数及工艺过程历史数据、报警的记录及显示。 7.3 提供客户端工艺菜单编辑软件。可以实现工艺菜单灵活编辑（可以在工艺编辑软件进行模块化的工艺菜单编辑）+工艺菜单自动控制执行模式（载入工艺菜单，支持实现无人值守或远程网络控制镀膜）。 7.4 真空泵组、冷却水系统、电源等关键部件存在安全互锁等功能，操作软件应具备带多项自动保护功能、系统故障自检功能和提示报警功能 8. 工艺要求 8.1 可以根据工艺需求，提供不同磁场设计的磁路模块，以调整等离子体参数。 8.2 提供常规金属基础工艺，可以实现6英寸范围内，不低于 +/- 5%均匀性要求。 9. 水冷系统 9.1 系统需要冷却的部件均有水冷，如靶枪、分子泵等，截止阀开关各路冷却水路，设备配有必须的冷却水安全互锁设计，以保护设备。 9.2 系统自带冷却机冷水系统，用户无需额外准备冷却水系统。 10. 供电及其他 10.1 设备安装条件要求低，可以使用220V、50Hz供电，配紧急停车按钮，相应的安全互锁装置，整机功率不超过3 KW。 10.2 整体设备设计紧凑，占地面积~1 m2 10.3 噪音低于70分贝 |
| 序号 | 附件名称 | 上传时间 | 大小 | 操作 |
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